ABB快速揀選并聯(lián)機器人IRB360-3球頭球碗吸嘴

 

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       半導體、集成電路生產(chǎn)的潔凈室要求：半導體材料提純作為發(fā)展半導體器件的重要基礎。由于大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的工藝要求，為得到高純度的硅材料，原料和中間媒介的高純度和生產(chǎn)環(huán)境的潔凈度成為影響產(chǎn)品質(zhì)量的一個突出問題。集成電路芯片的成品率與芯片的缺陷密度有關，而芯片的缺陷密度與空氣中粒子個數(shù)有關。因此，集成電路的高速發(fā)展，不僅對空氣中控制粒子的尺寸有極高的要求，而且也需進一步控制粒子數(shù)；同時，對于超大規(guī)模集成電路生產(chǎn)環(huán)境的化學污染控制也有相關的要求。